一、化学气相沉积如何分类?
化学气相沉积可以按照沉积工艺和原料进行分类。
按照工艺来分，可以分为：金属有机化合物化学气相沉积技术(MOCVD)、等离子化学气相沉积(PCVD)、激光化学气相沉积、低压化学气相沉积、超真空化学气相沉积、超声波化学气相沉积(UWCV）。
按照原料来分，可以分为化学气相沉积Si N 、Si、Si C、磷，硼等。
二、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为哪五个步骤
(1)不同成分气相前置反应物由主流气体进来,以扩散机制传输到基板表面.理想状况下,前置物在基板上的浓度是零,亦即在基板上立刻反应,实际上并非如此.
(2)前置反应物吸附在基板上,此时仍容许该前置物在基板上进行有限程度的表面横向移动.
(3)前置物在基板上进行化学反应,产生沉积物的化学分子,然后经积聚成核、迁移、成长等步骤,最后联合一连续的膜.
(4)把多余的前置物以及未成核的气体生成物去吸附.
(5)被去吸附的气体,以扩散机制传输到主流气相,并经传送排出.
三、欧美发达国家有哪些半导体知名设备公司？
截止2010全球排名前十位的半导体制造商如下：
Applied Materials
ASML
Tolky Electron
Lam Research
KLA-Tencor
Dainippon Screen
Novellus Systems
Varian
Nikon
Hitachi High-Tech
其中Novellus Systems已于2011年年底被Lam Research收购，而Varian早在2011年5月，被Applied Materials收购。
希望能给予参考
四、化学气相沉积法有哪三种主要的生长方式
第一种，第二种和第三种